プログラム
議題： 超伝導加速空洞の内面研磨処理技術
日時： 2010年1月14日（木） 13:30 - 17:00
場所： 高エネルギー加速器研究機構・東京連絡所 神谷町セントラルプレイス2階
（受付にて、入構カードを申請し、受け取ってください）
1. 横型超伝導空洞電解研磨装置 池田 篤美 / 田口 純志（株式会社 野村鍍金）
2. KEKにおける超伝導空洞の電解研磨の現状 佐伯 学行（高エネルギー加速器研究機構）
3. 電解複合研磨 山本 文夫 / 東 伸一（日造精密研磨株式会社）
4. 半導体基板の最新研磨技術 平林 英明（株式会社 東芝、生産技術センター）
全体質疑応答、議論