プログラム
平成21年6月4日(木) １３：３０から１７：００
高エネルギー加速器研究機構・東京連絡所（神谷町セントラルプレイス２階）
（一階受付にて、入構カードを申請し、受け取って入館願います。）
会員：参加無料
◎ 技術紹介テーマ
○ 先進材料：ファインセラミックス
『高耐電圧セラミックスへのアプローチ』
京セラ株式会社 前田岳志
○ 先進技術：電子ビーム溶接技術報告
１）『電子ビーム溶接技術とその応用』
三菱電機グループ・多田電機株式会社 花井正博
２）『電子ビーム溶接・工業技術としての活用』
黒木工業グループ・黒木コンポジット株式会社 小佐井秀浩
３）『各種超伝導空洞の内面欠陥と電界性能との関連』
高エネルギー加速器研究機構 早野仁司